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Scanning Electron Microscopy

Beschreibung: Aufgaben des Rastermikroskops (REM) Das Rastermikroskop mit Focused Ion Beam Zusatz ZEISS XB 1540 (FIBREM) als zentral im Zentrum für Oberflächen- und Nanoanalytik (ZONA) eingesiedeltes Beobachtungs- und Analysegerät, steht allen TNF-Instituten bzw. den Assistäten, Dissertanten und Diplomanten zur Verfügung.

FIBREM

FIB


ZEISS 1540XB CrossBeam is a ultra high resolution GEMINI® field emission column with the high performance Focused Ion Beam column into one integrated system. It gives the possibility to get live SEM-Imagination during FIB operation. Furthermore it allowes fully controlled targed preperations. The stage supports mechanically eucentric movements as well as compucentric rotation and tilting. A Gas Injection System (5 Gases) offers selective etching, enhanced etching, material deposition or isulator deposition. Also included is a micromanipulator for in situ samplehandling. There is also a variaty of different detectors to use, as SE, Inlens, BSE, EBSD (HKL) and EDX (Oxford).

Specifications:

SEM

1.1 nm @ 20 kV
2.5 nm @ 1 kV
20x - 900kx
4 pA - 20 nA
0.1 - 30 kV
FIB
7 nm @ 30 kV guaranteed,
5 nm achievable
600x - 500kx
1 pA – 50 nA
3 - 30 kV

SEM alt
JEOL 6400 is a SEM with a LaB6- Filament, configured with an EDX-System. SE-Detector, BSE-Detector
Specifications:

SEM

10 nm @ 20 kV
10x - 300kx
4 pA - 20 nA
0.4 - 40 kV